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太给力了!继光刻机、蚀刻机后又一国产半导体

时间:太给力了!继光刻机、蚀刻机后又一国产半导体

  中微半导体的创始人尹志尧,在60岁回国后开始创业,并成功地将国产蚀刻机推到了5nm水平,不仅打破了外部的垄断局面,还实现了技术核心化。除此之外,上海微电子在光刻机方面也是入局多年,一直有消息称今年或将交付28nm光刻机,

  尹志尧在去年和今年的多次接受采访中表示,半导体设备对今后的发展起着至关重要的作用,一代技术一代设备,这都是需要匹配的,但是国内如中芯国际掌握了7nm的技术,但是设备呢?蚀刻机是5nm,光刻机是90nm?他曾呼吁我们需要多方面、加大力度投资半导体设备,以此来稳住发展,而就在近期又有一则好消息传来,又一国产半导体设备迎来突破!

  至纯科技近期在某互动平台上表示,国产 28nm 湿法设备已经开始投用,而14nm甚至是7nm的设备,预计到2022年就可以投入使用。

  可能说到蚀刻机、光刻机大家都比较熟悉,但是提到湿法工艺设备可能就有点搞不懂了,或是不怎么听说过。

  其实这也很正常,清洗设备在整个半导体设备市场中占比只有5-6%,比例很小,且大家日常听到的都是“光刻机”、“蚀刻机”,自然对这样的设备不是很敏感。但是这也是不可缺少的一部分。

  这样的设备在制造过程中主要起到清洗的作用,清洗芯片制造过程中产生的颗粒、因为曝光、蚀刻而产生自然氧化层以及有机物、牺牲层。虽说现在的清洗分为干法清洗设备和湿法清洗设备,但9成以上都是使用湿法清洗设备,而国内的至纯科技在这一块就很有话语权。

  本次被爆出的是28nm,但其也表示14/7nm的设备到2022年的时候也是可以交付,且看它的客户诸如中芯国际、华为等企业,如此一来,也是在芯片产业线上又一个实现了替代的设备。

  可能会有人听说,国内半年内新注册了上万家半导体企业,投资了上千亿资金,但是如果仔细区别,很多都是在“设计”领域。

  但是对于我们来看,真正缺的应该是“制造”方面,为什么这么说呢?就以华为海思为例,其实际水平也算是全球领先了,但是台积电等企业无法代工后,也只能是搁浅,可倘若国内代工厂有一个能够站出来,那么还会有当下的窘迫吗?

  而制造呢?除了晶圆厂之外,更为重要的则是设备问题。国内半导体设备工艺水平可以说是参差不齐,有的能做到5nm先进水平,但有的却是90nm水平。

  尹志尧曾多次呼吁,我们理应加大在半导体设备方面的投入,要广泛吸纳人才,哪怕是泛半导体设备也是可以的。

  其实作为一个行业的大佬,能够发出这样的呼吁,自然是经过市场的调查以及发展前景而感慨的。

  只不过就论设计和制造而言,设计的门槛相对来说比较低一点,容易看到成绩,但这不是最为根本的啊,因为我们真正所需要解决的问题,才是当务之急!

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